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荷蘭光刻機龍頭上修2026營收範圍，反映AI晶片資本支出續旺。 .badgeprice-container {
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美國擬擴大出口管制深紫外光設備影響評估美國針對中國半導體產業的出口制裁可能進一步擴大。近日美國國會跨黨派議員正準備推動《MATCH法案》，計畫在極紫外光設備之外，進一步限制深紫外光曝光機的對中出口。此舉旨在防堵維修服務漏洞，確保技術領先優勢。針對此次潛在禁令，市場主要關注以下重點：法案核心：擬全面禁

大盤解析美股週一全面走強，三大指數同步收紅。標普500指數收漲1.18%至6,967點，那斯達克大漲1.96%至23,639點，道瓊指數上漲0.66%至48,536點，羅素2000小型股亦跟漲1.32%，費城半導體指數領跑大盤，單日收漲2.04%至9,224點，顯示風險偏好全面升溫。推動市場的最大催

美擬推新法案擴大出口管制近期美國國會正準備推動跨黨派的《MATCH法案》，旨在進一步收緊對中國的半導體設備出口管制。此法案不僅延續先前對極紫外光(EUV)設備的限制，更計畫全面禁止ASML向中國出口及維修深紫外光(DUV)設備，以維持美國與盟友的技術領先地位。法案相關重點與市場潛在影響如下：擴大設備

近期美國國會正聯手推動跨黨派的《MATCH法案》，擬進一步擴大對中國半導體的出口管制。此前美國已透過荷蘭限制極紫外光設備出口，此次新法案將矛頭指向效能低一階的深紫外光設備，提議全面禁止相關設備售予中國，並同步封堵後續的維修服務漏洞。針對此法案的市場焦點，可歸納為以下幾項重點：管制範圍擴大：提議禁止深

美國擬推新法案 擴大半導體設備輸中限制美國為防止中國取得先進半導體製造設備，正由國會推動跨黨派的《MATCH法案》，擬進一步擴大對荷蘭半導體設備巨頭 ASML(ASML) 的出口管制。此前美國已限制極紫外光設備出口，新法案將矛頭指向深紫外光(DUV)曝光機。此次法案的核心重點與潛在影響包括：擴大管制

美國推動新法案擴大晶片出口管制近日美國國會跨黨派議員正積極推動《MATCH法案》，擬進一步緊縮對中國半導體產業的出口限制。針對全球微影設備龍頭，該法案提議全面禁止其向中國出口深紫外光（DUV）曝光機設備，同時涵蓋後續的維修與技術服務。市場高度關注此法案對供應鏈的潛在影響，重點包含以下幾項：中國市場營

美擬擴大出口管制法案牽動半導體供應鏈近期美國國會正聯手推動《MATCH法案》，旨在進一步收緊對中國的半導體設備出口管制。繼先前限制極紫外光曝光機出口後，新法案擬全面禁止 ASML(ASML) 性能低一階的深紫外光設備與維修服務輸入中國，防堵對手取得關鍵半導體製造設備技術。此項潛在政策對市場與產業的影

美國兩黨國會議員正推動跨黨派《MATCH法案》，擬進一步升級對中國的半導體出口管制，此舉將直接牽動全球光刻機龍頭 ASML 的營運佈局。在極紫外光（EUV）設備已被限制出口後，新法案將矛頭指向深紫外光（DUV）設備。法案的重點影響與市場焦點如下：全面封殺 DUV 設備：提議禁止向中國「銷售或維修」D

【美股動態】ASML財報，AI擴產需求升溫
AI驅動營收靠近高標，ASML上修全年展望機率升高
市場聚焦艾司摩爾(ASML)本週揭曉的第一季財報，投資人押注AI伺服器擴產潮推升訂單與出貨，使營收落在公司先前開出的高標並帶動全年指引上修。公司先前預估第一季營收介於82億至89億歐元，較前一